RTD Wafer温度传感器
RTD 有线测温晶圆，高精度0.05℃，宽温段测量
- 测温精度高：±0.05℃
- 测温范围：-80~350℃
- 测温点数：1-97点
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RTD Wafer温度传感器
产品介绍
RTD Wafer是一种采用特殊加工工艺制成的温度传感器，其将测温元件（RTD）嵌入晶圆表面的特定位置，能够实时监测晶圆表面温度。该传感器可用于获取晶圆特定区域的真实温度数据及整体温度分布，也可在热处理过程中持续监测晶圆的瞬态温度变化。
产品特点
适合精度要求高的测温，精度可达0.05℃；
可定制定位数高达97点。
规格参数
| 序号 | 参数 | 内容 |
| 1 | 精度 | ±0.05℃(-80-250℃,0-250℃) |
| ±0.5℃(-80-350℃,0-350℃) | ||
| 2 | 测温范围 | -80~250℃（精度±0.05℃） |
| -80-350℃（精度±0.5℃） | ||
| 3 | 温度分辨率 | 0.01℃ |
| 4 | 传感器类型 | PT 1000 |
| 5 | 测温点数 | 1~97 |
| 6 | 基底材质 | 硅/ 蓝宝石等 |
| 7 | 晶圆尺寸 | 2”，4”，6”，8”，12” |
| 8 | 通信 | 有线 |
| 9 | 厚度 | 2~3.5mm |
| 10 | 应用场景 | 光刻涂胶显影TRACK设备、原子层沉积(ALD)、探针台测温、高精度加热盘 |
| 11 | 采样率 | 1Hz/2Hz |
| 12 | 质保期 | 3个月 |
软件界面
主要应用
光刻涂胶显影TRACK设备
原子层沉积(ALD)
探针台测温
高精度加热盘
生产周期
约35天
定制项目
1.确定温度精度要求与尺寸
2.确定真度要求
3.确定点位数量与排布
4.确定引出线长度